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集成电路布图设计登记证书|企业办理要求和流程

依据2026年8月3日新版《集成电路布图设计保护条例》(2026.10.15实施)整理,重点标注新规变化,适配芯片设计、封测、光子芯片、量子集成电路企业。

重要前提布图设计专有权自登记生效;PCB电路板布局不属于保护客体;保护期限10年;创作完成满15年不再受保护。

 

 

一、企业申请基础准入条件

1. 主体资格

1. 国内企业(法人/非法人组织)可直接申请;

2. 境外企业:首先在中国商用,或所属国与中国有相关国际条约;无境内营业场所必须委托正规专利代理机构;

3. 多个企业联合研发,可共同作为申请人。

 

2. 布图设计实质条件(新规重点强化)

✅ 独创性(核心)

① 属于企业自主智力成果,不得抄袭、复制竞品版图;

② 创作当时,不属于行业公认常规标准版图;

新规要求:必须提交独创性声明,写明独创区域、功能、创新点。

 

✅ 时间期限(窗口期,超期无法申请)

布图设计全球首次商业利用之日起2年内必须提交登记;未商用无2年限制。

 

✅ 保护范围拓宽(新版条例新增)

除传统半导体芯片,光子集成电路、量子集成电路布图设计均可登记。

 

❌ 不予保护情形

1. 单纯算法、逻辑方案、软件代码;

2. 常规公知版图、简单拼接常规模块;

3. PCB印刷电路板布线;

4. 抄袭、恶意抢注、虚假创作(新规加大打击,登记可被撤销)。

 

 

 

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二、企业申请全套材料清单

【必备文件】

1. 布图设计登记申请表(企业全称、统一社会信用代码、创作完成日期、版图名称、芯片应用领域)

2. 布图设计图样/复制件(分层版图+总图;清晰展示独创性区域)

3. 独创性声明【新规新增强制材料】

   写明:独创部分图层、区域、实现功能;区分常规设计与自主创新部分。

4. 委托代理机构:附加代理委托书

 

【有商用必须额外提交】

布图设计已经流片、量产、对外销售 → 提交4片搭载该版图的集成电路样品

 

【可选辅助材料】

版图电子数据光盘、设计简要说明、保密申请文件(涉及军工/涉密芯片)

 

⚠️新规红线:申请材料必须基于真实研发创作,虚假登记、恶意抢注登记将会被撤销,承担法律责任。

 

 

 

三、完整办理流程(两条渠道:电子申请优先)

办理主管单位:国家知识产权局

线上入口:集成电路布图设计电子申请平台 http://vlsi.cnipa.gov.cn

 

流程总步骤

步骤1:内部材料筹备 → 步骤2:提交申请(电子/纸件)→步骤3:形式审查→步骤4:缴费→步骤5:登记公告→步骤6:下发登记证书

分步详解

1. 前期准备

企业梳理版图GDS文件,导出分层图样;撰写独创性声明;确认是否已经商用、准备芯片样品。

 

2. 递交申请(二选一)

电子申请(推荐,时效更快):平台在线填报,上传图样压缩包;样品邮寄国知局;

纸件申请:文件邮寄/面交:北京市海淀区西土城路6号 国知局专利局受理处,信封标注【集成电路布图设计】

 

3. 受理与形式审查(1~1.5个月)

国知局只做形式审查,不实质审查独创性;

材料齐全:下发《受理通知书》+《缴费通知书》

文件缺陷:下发补正通知书,限期补正;逾期视为撤回申请

 

4. 缴纳登记费

收到缴费通知起 2个月内缴费,官方登记费:1000元;逾期视为撤回。

 

5. 核准登记、公告发证(缴费后1.5~2个月)

审查无误 → 国知局登记、官网公告;公告完成后发放《集成电路布图设计登记证书》

✅ 整体周期:顺利情况下 3个月左右拿证

 

 

 

、拿证后企业高频业务(新版条例打通知识产权运营)

新版条例明确规范转让、许可、质押流程,方便企业融资、授权合作:

1. 转让:签订书面合同,向国知局办理转让登记,登记完成权利转移生效;内资转外资需履行对外技术转让审查;

2. 许可使用:许可合同签订后3个月内办理备案,作为维权证据;

3. 质押融资:企业可使用布图设计专有权质押贷款,双方共同办理质押登记;

4. 变更企业名称、地址:办理著录项目变更;

5. 维权基础:登记证书是起诉侵权、行政投诉核心权属凭证;新规大幅提高侵权赔偿额度。

 

 

 

、企业高频踩坑提醒

1. 不要等到芯片大规模销售再申请!商用起算2年窗口期,超期丧失登记资格;

2. 独创性声明不能简单照搬模板,模糊描述极易在后续侵权诉讼中处于劣势;

3. 图样只提交部分图层,无法展示独创区域,存在被撤销登记风险;

4. 禁止模仿竞品版图后申请登记,属于虚假登记,任何人可申请撤销;

5. 布图设计≠专利:保护客体、保护期限、保护规则完全独立,建议芯片企业专利+布图设计双重布局。

 

 

七、区分:布图设计登记 VS 发明专利

布图设计:保护版图几何布局;保护期10年;形式审查;适合芯片物理版图;

发明专利:保护电路结构、算法、工艺方法;20年保护;实质审查;适合芯片架构、创新电路方案。

 

 

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